危険物質・汚染物質ゼロの超高性能ソーラーパネルの開発に成功、菅直人で有名な東工大 [422186189]

俺は太陽光には詳しいんだ！

東工大は有名だけど菅直人で有名なわけじゃないだろ

森林伐採と中国利権が叩かれてたのをあえて触れない感じ？

>>21
太陽光パネルを置きまくったら逆に太陽光エネルギーが電気になりまくって寒くなるだろ

でもお高いんでしょ？

日本が太陽光で世界一二を争う時に太陽光叩きまくったのがネトウヨ
日本の国益に明確に反対

日本列島改造論

寝不足によって身体の免疫力が低下すると、口内で雑菌が繁殖しやすくなり、口内炎ができてしまいます。

寝不足には口内炎の他にも、

・さまざまな病気の原因になる
・肥満になる
・体臭がキツくなる
・思考力が下がる
　
などさまざまなリスクが存在します。健康的に暮らすためには適切な睡眠時間を確保し、質の良い睡眠がとれるようにしましょう。

口内炎は寝不足で起こり得る？口内炎と免疫力の関係について
https://selfcare-sdc.com/columns/konaien-65/

>>20
それならネトウヨも納得だっただろう

>>14
国産パネル使えばいいもんを禿パンクと中華パネル全振りでずっこけたわｗ

>>50
韓国に研究の概念なんかないよ

>>36
最近思うんだが自民下げの書き込みって
そのまま共産社会に当てはまるから
自民下げって共産社会の自白にしか見えんのだが

ウラジーミル・プーチン←親子工場働きの貧民層から湧いてきた白人崩れのスラブ〇ス草＾＾あのいかにも工場働きのゴ〇から生まれてきましたみたいな図ワロスｗｗｗまあ頭も〇いし肉体労働するためのガタイに貧困だかなんかで栄養取れなかったのか知らないけど低身長だな＾＾ちなみにロシア人の平均身長は175cmなんだけどな〜ｗ歩いてるときもみずぼらしい図なの気づいてますか〜？ｗつかこいつ障害持ちで取材とか受けてる時とかよく無駄な動作してたりするけどそれも栄養失調が招いた結果だったりしたら笑えるな＾＾

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シリコン系とペロブズ系の両方に適用できる

>>9
隙あらばチョクト上げやめろバカ

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中国製を輸入禁止にすれば太陽光も素晴らしいものなんだけどね

「太陽光パネルの補助金は日本製のみ」と政府がやっていれば全然違った結果になっていただろう

（条件つけず）電力自由化で“必ず“電気代が安くなる！と語る人が大量に居たよな
あれフェイクニュースじゃね？

>>20
無理やなパネルより売電価格の方がなお問題だし
事業者を日本企業のみにしても在日企業群がるのは変わらん

>>30
ご自由にやらせてる我々は未来に投資するわ

自民党某議員「そんなものを開発してくれたら困るよ君」

>>19
言ってたのケケ中辺りなんじゃね？w

>>72
そうそれだよな

原子力ムラに潰された日本の太陽光もやっと復活するか

開発の内容は中国にダダ漏れだろうな。で、結局何も変わらない。

>>71
工業大か！高校時代遊びすぎたんだろ！のコピペで有名だよな

で、発電効率は？

>>40
補助金の要件変えたらいい

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SHJ太陽電池は、理論効率である29％に迫る26.8％の発電効率を示すなど、次世代の高性能太陽電池として期待されている。SHJ太陽電池の高い効率は、a-Si:Hをシリコンウエハー表面のパッシベーション層（ウエハー表面でのキャリア再結合を抑制する層）として用いることに起因している。一方で、a-Si:H層の形成プロセス（プラズマCVD法、Cat-CVD法）では、強い爆発性／毒性を持つSiH4ガスを使用するため、太陽電池における主流となっているPERC（Passivated Emitter and Rear Cell）型の構造を持つ結晶シリコン太陽電池に比べて製造コストが高いことが課題となっている。

同研究では、ウエハー直上に存在するi-a-Si:H（アンドープa-Si:H）に着目し、シリコンウエハーの両面にi-a-Si:Hのみを形成した試料を用いてウエハー表面でのキャリア再結合抑制効果を評価した。

ウエハー表面でのキャリア再結合抑制効果の指標となる実効キャリアライフタイムは、厚さ42nmのi-a-Si:Hを用いた場合に10ミリ秒を超える値を示し、太陽電池を形成した場合の出力電圧の目安であるiVocの値は726mVと高い値を示した。また、実際の太陽電池で用いる5nmのi-a-Si:Hを用いた場合でもiVocは717mVと高い値を保ち、薄型シリコンウエハー（100ミクロン）に5nmのi-a-Si:Hを形成した試料におけるiVocは730mVであった。これらは、従来技術であるプラズマCVD法やCat-CVD法と比べても遜色のない結果だ。

同研究成果は、薄膜形成プロセスの手法の一つである「対向ターゲットスパッタ（FTS）法」を用いることで実現したものだ。一般的なスパッタ法では、製膜速度が毎分1.8nm以上の場合はプラズマダメージにより良好なキャリア再結合抑制効果が得られていなかったが、同研究においては毎分31nmで製膜した場合でもキャリア再結合抑制効果が損なわれないことを確認している。

https://image.itmedia.co.jp/ee/articles/2404/08/sh240405_toko01.jpg
https://image.itmedia.co.jp/ee/articles/2404/08/sh240405_toko02.jpg
https://eetimes.itmedia.co.jp/ee/articles/2404/08/news102.html

そうじゃなくて環境破壊をやめろと言ってるんだよ
島国なのにメガソーラー敷設エリアが世界一っておかしいだろ